PRODUCT

產品中心

首頁 ? 產品中心 ? PVD鍍膜設備 ? 離子束濺射鍍膜設備

單室離子束鍍膜設備
編號:SN20151013153534805
類別:離子束濺射鍍膜設備
  • 產品概述
  • 規格參數
  • 服務支持

    設備用途

        系統為高真空多功能離子束沉積系統, 可用于開發納米級的單層及多層功能膜和復合膜-可鍍金屬、合金、化合物、半導體、介質復合膜等。廣泛應用于大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。

     

    設備組成

        系統主要由沉積室、考夫曼濺射離子源、考夫曼清洗輔助離子源、樣品臺、樣品加熱裝置、膜厚監測系統、泵抽系統、真空測量系統、氣路系統、電控系統等組成。

留言咨詢 (* 為必填項目)
* 姓名
* 內容
* 驗證碼
 
QQ在線咨詢
在線QQ客服
3249891528
咨詢熱線
024-23826855
申城斗地主官网 捕鱼达人3吾爱破解 疯狂捕鸟内购破解版 幸运农场计划团队 网赚推广app 全天pk10最精准人工计划 菜鸟团队靠什么挣钱 宁夏体彩11选5 卡牌黑桃莽荒纪手游满v 四肖八码期期选一肖 浙江11选5下载